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2006年全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)材料分技術(shù)委員會(huì)秘書(shū)處會(huì)議安排


    來(lái)源:中國(guó)有色金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量質(zhì)量研究所     更新時(shí)間:2006-05-16       評(píng)論: 0

第一次會(huì)議:項(xiàng)目包括(修改)   (洛陽(yáng))     六月

國(guó)標(biāo)

項(xiàng)目名稱(chēng)

主起草單位

備注

GB/T 14264-1993

半導(dǎo)體材料術(shù)語(yǔ)

中國(guó)有色金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量質(zhì)量研究所、有色院等

第二次會(huì)議

GB/T 1555-1997

半導(dǎo)體單晶晶向測(cè)定方法

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì) 

GB/T 1558-1997

硅中代位碳原子含量紅外吸收測(cè)量方法

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì)

GB/T 4058-1995

硅拋光片氧化誘生缺陷的檢驗(yàn)方法

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì)

GB/T 6616-1995

半導(dǎo)體硅片電阻率及硅薄膜薄層電阻測(cè)定  非接觸渦流法

有研半導(dǎo)體材料股份有限公司

討論會(huì)

GB/T 6617-1995

硅片電阻率測(cè)定  擴(kuò)展電阻探針?lè)?

中科院半導(dǎo)體所

討論會(huì)

GB/T 6618-1995

硅片厚度和總厚度變化測(cè)試方法

有研半導(dǎo)體材料股份有限公司

討論會(huì)

GB/T 6619-1995

硅片彎曲度測(cè)試方法

洛陽(yáng)單晶硅有限責(zé)任公司

討論會(huì)

GB/T 6620-1995

硅片翹曲度非接觸式測(cè)試方法

洛陽(yáng)單晶硅有限責(zé)任公司

討論會(huì)

GB/T 6621-1995

硅拋光片表面平整度測(cè)試方法

上海合晶硅材料有限公司

討論會(huì)

GB/T 6624-1995

硅拋光片表面質(zhì)量目測(cè)檢驗(yàn)方法

上海合晶硅材料有限公司

討論會(huì)

GB/T 10118-1988

高純鎵

有研半導(dǎo)體材料股份有限公司

討論會(huì)

GB/T 11072-1989

銻化銦多晶、單晶及切割片

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì)

GB/T 13387-1992

電子材料晶片參考面長(zhǎng)度測(cè)量方法

有研半導(dǎo)體材料股份有限公司

討論會(huì)

GB/T 13388-1992

硅片參考面結(jié)晶學(xué)取向X射線(xiàn)測(cè)量方法

有研半導(dǎo)體材料股份有限公司

討論會(huì)

GB/T 14141-1993

硅處延層、擴(kuò)散層和離子注入層薄層電阻的測(cè)定  直排四探針?lè)?

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì) 

GB/T 14146-1993

硅外延層載流子濃度測(cè)定 汞探針電容-電壓法

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì)

 

第二次會(huì)議:項(xiàng)目包括          (青島)       八月

國(guó)標(biāo)

項(xiàng)目名稱(chēng)

主起草單位

備注

GB/T 1550-1997

非本征半導(dǎo)體材料導(dǎo)電類(lèi)型測(cè)試方法

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì)

整合

GB/T 1551-1995

GB/T 1552-1995

硅、鍺單晶電阻率測(cè)定  直流兩探針?lè)?

硅、鍺單晶電阻率測(cè)定  直排四探針?lè)?

廣州半導(dǎo)體所

討論會(huì)

GB/T 1553-1997

硅和鍺體內(nèi)少數(shù)載流子壽命測(cè)定光電導(dǎo)衰減法

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì) 

GB/T 1554-1995

硅晶體完整性化學(xué)擇優(yōu)腐蝕檢驗(yàn)方法

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì)

GB/T 4061-1983

硅多晶斷面夾層化學(xué)腐蝕檢驗(yàn)方法

洛陽(yáng)中硅

討論會(huì)

GB/T 10117-1988

高純銻

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì)

GB/T 12963-1996

硅多晶

洛陽(yáng)單晶硅有限責(zé)任公司

討論會(huì)

GB/T 14140-1993

硅片直徑測(cè)量方法

洛陽(yáng)單晶硅有限責(zé)任公司

討論會(huì)

GB/T 14139-1993

硅外延片

上海合晶硅材料有限公司

討論會(huì) 

GB/T 14144-1993

硅晶中間隙氧含量徑向變化測(cè)量方法

峨嵋半導(dǎo)體材料廠

討論會(huì)

整合

GB/T 15713-1995GB/T 5238-1995

鍺單晶、鍺單晶片

南京鍺廠有限責(zé)任公司

討論會(huì)

 

第三次會(huì)議:項(xiàng)目包括           半導(dǎo)體年會(huì)

國(guó)標(biāo)

項(xiàng)目名稱(chēng)

主起草單位

備注

GB/T 14264-1993

半導(dǎo)體材料術(shù)語(yǔ)

中國(guó)有色金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量質(zhì)量研究所

審定

GB/T

太陽(yáng)能電池用單晶硅

中國(guó)有色金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量質(zhì)量研究所

討論會(huì)

GB/T

太陽(yáng)能電池用多晶硅

中國(guó)有色金屬工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量質(zhì)量研究所

討論會(huì)

GB/T

使用全反射X光熒光光譜測(cè)量硅片表面金屬玷污的測(cè)試方法

有研半導(dǎo)體材料股份有限公司

討論會(huì)

GB/T

半導(dǎo)體襯墊材料的亞表面損傷偏振反射差分譜(RDS)測(cè)試方法

中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所

討論會(huì)

GB/T

硅片平整度、厚度及厚度變化測(cè)試 自動(dòng)非接觸掃描法

上海合晶硅材料有限公司

討論會(huì)

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