|
| 英文名稱： |
Test method for crystalline quality of semiconductive single crystal—X-ray diffraction method |
 中標(biāo)分類： |
冶金>>金屬理化性能試驗(yàn)方法>>H21金屬物理性能試驗(yàn)方法 |
| ICS分類： |
冶金>>77.040金屬材料試驗(yàn) |
| 發(fā)布部門： |
國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局 國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì) |
| 發(fā)布日期： |
2023-08-06 |
| 實(shí)施日期： |
2024-03-01
|
| 提出單位： |
全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 203)、全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)材料分技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 203/SC 2) |
| 歸口單位： |
全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 203)、全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)材料分技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 203/SC 2) |
| 起草單位： |
中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所、有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院有限責(zé)任公司、 北京通美晶體技術(shù)股份有限公司、山東有研半導(dǎo)體材料有限公司、弘元新材料(包頭)有限公司、哈爾濱科友半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)裝備與技術(shù)研究院有限公司、浙江海納半導(dǎo)體股份有限公司等 |
| 起草人： |
何烜坤、劉立娜、李素青、龐越、馬春喜、許蓉、任殿勝、王元立、朱曉彤、李向宇、楊陽(yáng)、潘金平、王書明、趙松彬、林泉、李國(guó)平、張新峰、趙麗麗、夏秋良 |
| 頁(yè)數(shù)： |
12頁(yè) |
| 出版社： |
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社 |